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简要说明:
王小姐 13076966141 QQ 786621430
依据长期的实践,对抛光机理的认识,我们倾向综合论的解释,即视抛光过程为物理与化学作用的综合,两者作用存在于抛光过程始末。光学玻瑞的抛光是个极为复杂的过程,影响因素也是极为复杂的。认为抛光是精磨的继续,它们从本质上是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂(我公司目前使用的抛光粉粒度范围(0.5um-3um)。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于研磨皿与镜片表面相当吻合,因此抛光时切向力很大,从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。
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