简要说明：海德研磨牌的半导体材质抛光液-半导体材质粗抛液-半导体材质精抛液产品：估价：0，规格：完善，产品系列编号：齐全

半导体材质抛光液的组分：抛光粉、水、酸、无机盐、其他。适合半导体材质工件抛光用。(详情请咨询海德0755-89813868)

(图一：部分添加试剂)

(图二：抛光粉)

一般来说，工件要实现镜面效果，基本上都是要经过粗抛、精抛和抛光这三道工序的。如果工件本身具有一定的精度，则可以省略粗抛工序。

粗抛：去除毛坯的大部分余量，最后所达到的效果要保持到大致的几何形状与粗糙度。

精抛：粗抛完成后的下一个工序就是精抛，结果是能够保持最精确的几何形状以及精细的裂纹深度。

抛光：工件通过了粗抛、精抛工艺后，进入抛光工序;也是最终实现光学表面层实现的最后一个部分，前提下前两者必须要为最后一步抛光做好准备，使得在整个抛光过程当中，尽量去除粗抛与精抛所留下的破环层，实现光学表面最理想镜面效果。

由于这三种工序不同，所用的研磨液也不一样

1.粗抛选择的耗材是：粗抛液，粗磨盘(铸铁盘)。这两种耗材的成分里面，主成分的材质稍微较粗，要求硬度较高，颗粒度较大，这样才有较好的切削力。

2.精抛选择的耗材是：精抛液，精磨盘(锡盘)。这两种耗材相对要求要高一点，需要材质更为精细，颗粒非常小的原材料生产。

3.抛光选择的耗材是：抛光液，抛光盘(铜盘)。这个耗材要求最高，对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。

选择海德，保证抛光效果

一般来说，研磨液都是以客户工件的材质和要达到的效果来配置的。在交货前，海德工程师会依据客户提供的工件试样，除了要达到客户抛光要求，还要实现高良率、高效率、低成本原则。交货后，提供详细的使用方法，并有工程师上门指导，保证抛光效果。(详情请咨询海德：0755-89813868)

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产品来源：http://www.szlapping.com/yanmoye/691.html