简要说明：MultiPrepTM研磨抛光机 MultiPrepTM 系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合

MultiPrep^TM研磨抛光机

 MultiPrep^TM 系统适用于高精微（光镜，SEM，TEM，AFM，etc）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角抛光，定址抛光或几种方式结合抛光。它保证良好的重现性，可以解决多用户使用的矛盾。 MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触               

 TechPrep^TM 为MultiPrep^TM的定位装置提供电源。人性化的控制面板设计控制MultiPrep?所有功能。研磨盘转速范围（顺/逆时针）为5到350PRM。除触摸开关控制所有功能外，还有数字触摸键盘用于设置研磨盘速度、计时器、摆动与旋转设置。此系统用水符合冷却标准；自动滴液给料系统适用研磨悬浮液和润滑剂。 

特点：

※测微计控制样品的设置。

※精确轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转。

※数字千分表显示样品行程，增量1微米（实时）。

※双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），10°幅度， 0.02° 增量。

※6倍速样品自动摆动。8倍速样品自动旋转。

※样品调整范围：0-600g（100g增量）。   

※数字记时器与转速计。

※凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具。

※符合CE标准。

※美国设计制造。

规格：

Item	Descrtption
15-2000-GI	MultiPrep™ System, 8", 115 V
15-2000-GI-230	MultiPrep™ System, 8", 230 V
Includes: #10-1005 8" Aluminum Platen, Splash Ring, Platen Cover, #15-1020 Parallel Polishing Fixture, #15- 1030 Dial Indicator Calibration Kit, Accessory Case, #50- 30076 8" Diamond Lapping Film Assortment Pack, #90- 150-350 8" Red Final C Adhesive Back Polishing Cloth, #180-25015 0.04 Micron Colloidal Silica Suspension, 16 oz. and MultiPrep™ Procedures & Alignment Video CDs

附件：

10-1005	8" (203 mm) Aluminum Platen
10-1005M	8" (203 mm) Magnetic System Platen

规格：

Item	Descrtption
15-2000-12	MultiPrep™ System, 12", 115 V
15-2000-12-230	MultiPrep™ System, 12", 230 V
Includes: #10-1010 12" Aluminum Platen, Splash Ring, Platen Cover, #15-1020 Parallel Polishing Fixture, #15-1030 Dial Indicator Calibration Kit, Accessory Case and MultiPrep™ Procedures & Alignment CDs

附件：

10-1010	12" (305 mm) Aluminum Platen
10-1010M	12" (305 mm) Magnetic System Platen