ASML 4022.486.19532
ASML 4022.486.19532
产品价格:(人民币)
  • 规格:4022.486.19532
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    商品详情

      ASML 4022.486.19532

      ASML 4022.486.19532

      :核心技术参数全面

      在半导体制造领域,ASML作为光刻技术的领先者,其设备参数一直是行业关注的焦点。本文将深入探讨ASML型号为4022.486.19532的光刻机参数,帮助读者全面了解这一先进设备的核心技术指标。

      基本信息

      ASML 4022.486.19532是一款高度先进的光刻设备,属于ASML的TWINSCAN系列。该设备采用极紫外(EUV)光刻技术,能够实现纳米级的芯片制造。其独特的双工作台设计,显著提高了生产效率,是现代半导体生产线中的关键设备之一。

      关键技术参数

      1. 
      光源技术
      ● 
      光源类型:EUV(极紫外光)
      ● 
      波长:13.5纳米
      ● 
      光源功率:高达250瓦,确保高分辨率和高效曝光
      2. 
      分辨率与精度
      ● 
      分辨率:小于7纳米
      ● 
      套刻精度:优于1.5纳米
      ● 
      曝光场尺寸:26毫米 x 33毫米
      3. 
      生产效率
      ● 
      每小时晶圆处理量:超过200片
      ● 
      双工作台设计:同步处理两片晶圆,大幅提升生产效率
      4. 
      自动化与控制系统
      ● 
      自动化程度:高度自动化,配备智能控制系统
      ● 
      对准精度:亚纳米级对准技术,确保高精度曝光
      5. 
      环境要求
      ● 
      洁净室等级:ISO Class 1
      ● 
      温度控制:±0.1摄氏度
      ● 
      湿度控制:±1%
      6. 
      尺寸与重量
      ● 
      设备尺寸:约10米 x 6米 x 4米(长x宽x高)
      ● 
      重量:超过150吨

      应用领域

      ASML 4022.486.19532主要应用于先进逻辑芯片和存储芯片的制造。其高分辨率和高效率使其成为7纳米及以下工艺节点的理想选择,广泛应用于智能手机、电脑、数据中心等高端电子产品的芯片制造中。

      技术优势

      1. 
      极紫外光刻技术:EUV光源波长短,能够实现更高的分辨率和更精细的图案转移。
      2. 
      双工作台设计:同步处理两片晶圆,显著提高生产效率,降低生产成本。
      3. 
      高精度对准系统:亚纳米级对准技术,确保曝光精度,提高芯片良率。
      4. 
      智能控制系统:高度自动化的控制系统,实现高效、精准的生产管理。

      结语

      ASML 4022.486.19532作为光刻技术的巅峰之作,凭借其先进的技术参数和卓越的性能表现,在全球半导体制造行业中占据重要地位。通过深入了解这些参数,我们可以更好地认识这一设备的强大功能及其对现代芯片制造的重要意义。
      联系人:吴经理 手机:18596688429(微信同号)邮箱:841825244@qq.com


      ASML 4022.486.19532



























































































































































































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