品牌p/e
型号440
加工定制否
类型无
外形尺寸无mm
重量无kg
产品用途光学薄膜量产、半导体晶圆生产、大尺寸晶圆处理
规格无
展开
供应供应进口 rf磁控溅射及刻蚀处理设备 用于光学薄膜/半导体晶圆批量生产
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射频等离子设备：溅射沉积和刻蚀处理,设计用于批量生产高产出
load lock:抽气能力极强，打开腔体装样不会影响沉积腔体真空度
沉积薄膜范围：可以沉积几乎所有薄膜及进行刻蚀处理
多功能模式：dc磁控溅射、rf磁控溅射、rf电极溅射、偏压溅射、
反应溅射、溅射刻蚀、等离子刻蚀、反应离子刻蚀
生产能力强：al沉积速率高达2000?/分钟，生产超过150个3英寸晶圆/小时
高产出：旋转衬底用于多程沉积，保证高均匀性和每批次可重复性。
其他特点：
快速装载，快速抽真空，闭环氦低温泵。
特殊的机械设计专门用于***小化污点和小孔等缺陷的产生。
通过易操作的装载托盘设计降低晶圆破损率。
可重复性高品质薄膜通过干净的高真空环境来保证。
设备用于生产高品质al, al合金, pt，硅化物，tiw，niau，氮化硅，二氧化硅，硅铬化合物
应用：光学薄膜、mems、半导体晶圆处理、金属膜、非金属膜等。