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商品详情
井式/立式真空炉主要用于半导体器件烧结、封焊，太阳能电池片烘干、焊接及金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在氢氮保护下进行的工艺 。
井式真空炉主要技术参数
u真空室工位数：1-3位
u真空度：1Pa，加扩散泵为5x10-3Pa
u工作温度：<1000℃
u充气的最高压强：0.3Mpa（可控）
u不锈钢内胆：Φ150-Φ350x1300mm(用户自定)
u恒温区：600-1200mm±1℃
u控温方式：三点三段采用原装进口高精度控温仪
u控温曲线：9段升降温/999小时
u工作方式：自动或手动自由转换
u单点精度：±1℃/24h
u正压、负压均采用数字显示表
u可多工位同时工作
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